與水(shui)基(ji)或稀釋(shi)劑型噴(pen)(pen)(pen)(pen)(pen)墨(mo)(mo)不一樣(yang)，UV直射(she)線應用彩(cai)打墨(mo)(mo)水(shui)要厚得多，粘(zhan)合度(du)(du)也高。噴(pen)(pen)(pen)(pen)(pen)淋頭被升溫(wen)以下降粘(zhan)合度(du)(du)，于是(shi)應該(gai)有(you)效地地對其進(jin)行噴(pen)(pen)(pen)(pen)(pen)射(she)式；對此，必須要采取(qu)化(hua)(hua)工(gong)光電(dian)探測器(qi)噴(pen)(pen)(pen)(pen)(pen)淋頭。不是(shi)采取(qu)熱敏(min)噴(pen)(pen)(pen)(pen)(pen)墨(mo)(mo)或低(di)粘(zhan)合度(du)(du)光電(dian)探測器(qi)噴(pen)(pen)(pen)(pen)(pen)墨(mo)(mo)噴(pen)(pen)(pen)(pen)(pen)淋頭。在UV直射(she)線應用膠印油墨(mo)(mo)的化(hua)(hua)工(gong)彩(cai)打頭要價格昂貴得多，而采取(qu)這種彩(cai)打頭的彩(cai)打機也是(shi)如此這般(ban)。

UV太(tai)陽光(guang)(guang)的(de)(de)(de)(de)(de)紫(zi)外光(guang)(guang)光(guang)(guang)線膠印噴(pen)墨(mo)(mo)墨(mo)(mo)水(shui)切實有是(shi)(shi)同(tong)一個(ge)個(ge)看(kan)不(bu)出的(de)(de)(de)(de)(de)好處，即膠印噴(pen)墨(mo)(mo)墨(mo)(mo)水(shui)不(bu)易(yi)像(xiang)水(shui)基或萃取劑型膠印噴(pen)墨(mo)(mo)墨(mo)(mo)水(shui)如此(ci)在激光(guang)(guang)噴(pen)頭中(zhong)蒸發器，那么蓋(gai)帽和清潔都更方便管理(li)工作，擁堵(du)的(de)(de)(de)(de)(de)間(jian)題也(ye)少些。從消(xiao)極悲觀的(de)(de)(de)(de)(de)一經面去看(kan)，膠印噴(pen)墨(mo)(mo)墨(mo)(mo)水(shui)尤其方便面臨(lin)雜(za)散的(de)(de)(de)(de)(de)UV太(tai)陽光(guang)(guang)的(de)(de)(de)(de)(de)紫(zi)外光(guang)(guang)光(guang)(guang)線的(de)(de)(de)(de)(de)影響到(dao)，這(zhe)或者(zhe)會引起早點(dian)的(de)(de)(de)(de)(de)化學(xue)交聯(lian)，導(dao)致擁堵(du)激光(guang)(guang)噴(pen)頭。UV太(tai)陽光(guang)(guang)的(de)(de)(de)(de)(de)紫(zi)外光(guang)(guang)光(guang)(guang)線應用(yong)(yong)打(da)印紙文(wen)件(jian)機(ji)的(de)(de)(de)(de)(de)專用(yong)(yong)設備顯著(zhu)共同(tong)點(dian)是(shi)(shi)考慮到(dao)防范雜(za)散光(guang)(guang)，其它(ta)的(de)(de)(de)(de)(de)顯著(zhu)共同(tong)點(dian)是(shi)(shi)經由隨意跳轉不(bu)總(zong)是(shi)(shi)采用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)(de)激光(guang)(guang)噴(pen)頭中(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)墨(mo)(mo)滴來保持穩定激光(guang)(guang)噴(pen)頭的(de)(de)(de)(de)(de)輕松自由度計算(suan)--這(zhe)些是(shi)(shi)是(shi)(shi)同(tong)一個(ge)穩定的(de)(de)(de)(de)(de)打(da)印紙文(wen)件(jian)機(ji)方案中(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)重要顯著(zhu)共同(tong)點(dian)。

另外一只個(ge)UV分光(guang)光(guang)度計線(xian)，線(xian)uv油墨的(de)挑戰(zhan)是自(zi)然(ran)空(kong)氣中的(de)氧(yang)(yang)與(yu)聚己內酯(zhi)和(he)(he)低聚物市場(chang)競爭UV分光(guang)光(guang)度計線(xian)，線(xian)照光(guang)時成型(xing)的(de)什么是自(zi)由基。過多的(de)光(guang)致使(shi)劑(ji)常(chang)(chang)被進入到墨自(zi)來水中以(yi)補嘗(chang)氧(yang)(yang)的(de)化學降解。如氧(yang)(yang)在交(jiao)連(lian)反饋前耗損了(le)光(guang)致使(shi)劑(ji)，現在交(jiao)連(lian)則會(hui)不非常(chang)(chang)。為了(le)能(neng)夠規(gui)避這種(zhong)困(kun)難(nan)，并(bing)同(tong)意(yi)更(geng)為重要的(de)縮印流速(su)和(he)(he)更(geng)完(wan)整詳細的(de)應用(yong)，EFI在其五些縮印機的(de)縮印空(kong)間區域適用(yong)了(le)氦氣"毯子"，以(yi)打造兩個(ge)無氧(yang)(yang)的(de)縮印自(zi)然(ran)環境。

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